半透半反液晶显示屏研发生产项目工程分析专章.doc

北京京东方光电科技有限公司半透半反液晶显示屏研发生产项目半透半反液晶显示屏研发生产项目半透半反液晶显示屏研发生产项目 工程分析专项工程分析专项中冶节能环保有限责任公司中冶节能环保有限责任公司 二二一九年六月一九年六月北京京东方光电科技有限公司半透半反液晶显示屏研发生产项目I目 录1.现有工程概况及工程分析 .31.1现有工程概况 .31.1.1建设单位简介 .31.1.2京东方现有项目概况 .31.2现有工程建设规模及内容 .61.3现有工程分析 .121.3.1现有工程工艺流程简述 .121.3.2平衡分析 .191.3.3现有工程主要污染物排放情况 .211.3.4现有工程环境保护措施 .271.4现有工程环境风险分析 .351.4.1风险概述 .351.4.2工程控制措施 .351.4.3风险管理措施 .361.4.4事故应急预案 .381.5现有工程环境管理与环境监测 .391.6现有工程环境影响分析小结 .432.建设项目概况 .442.1.建设项目基本情况 .442.1.1.项目由来 .442.1.2.项目概况 .442.2.建设规模及内容 .442.3.生产规模及产品方案 .462.4.劳动定员及工作制度 .462.5.总平面布置 .462.6.建设周期 .462.7.主要生产设备及原辅材料 .482.7.1.主要生产设备 .482.7.2.原辅材料 .482.7.3.能源动力消耗 .503.工程分析 .513.1.工艺流程及产污环节分析 .513.2.工艺区划 .663.3.水平衡分析 .683.4.物料平衡分析 .703.5.污染物产生、治理措施及排放情况分析 .713.5.1.废气产生、治理措施及排放情况分析 .713.5.2.废水一类污染物银离子产生、治理措施和及排放情况分析 .753.5.3.废水二类污染物产生、治理措施及排放情况分析 .78北京京东方光电科技有限公司半透半反液晶显示屏研发生产项目II3.5.4.噪声产生、治理措施及排放情况分析 .803.5.5.固体废物产生、治理措施及排放情况分析 .813.5.6.非正常工况排放情况分析 .833.6.污染物三本账核算 .863.7.小结 .874.环境保护措施及技术经济分析 .894.1.本项目依托现有工程环境保护措施及其可行性分析 .894.2.新建含银废水处理设施 .944.2.1.成熟的含银废水处理技术简介 .944.2.2.本项目拟采取含银废水工艺路线 .944.2.3.本项目含银废水可行性分析 .964.3.小结 .97北京京东方光电科技有限公司半透半反液晶显示屏研发生产项目31.1. 现有工程概况及工程分析现有工程概况及工程分析1.11.1 现有工程概况现有工程概况1.1.11.1.1 建设单位建设单位简介简介北京京东方光电科技有限公司（统一社会信用代码 911103027493533932，以下简称“京东方光电”）成立于 2003 年 9 月，为上市公司京东方公司的下属子公司，位于北京经济技术开发区的京东方显示科技园内，是一家以显示产品为主导的高新技术企业、北京市重点骨干企业，以研发、设计、生产、销售 TFT-LCD（薄膜晶体管液晶显示器件）为主营业务，是经国务院批准成立的国内第一家拥有全部自主知识产权的 TFT-LCD 企业，目前主要产品为智能手机、平板电脑、车载仪器等使用的显示屏。1.1.21.1.2 京东方现有项目概况京东方现有项目概况（1）第 5 代 TFT-LCD 生产线第 5 代 TFT-LCD 生产线总投资 12.4 亿美元，设计产能为 6 万张/月的玻璃基板（尺寸为 1100×1300(0.7)mm）生产线及其相应的公辅设施，年产 TFT-LCD 液晶屏模块 669万块。该生产线于 2004 年 3 月获得国家环保总局以“环审200493 号”文的环评批复同意该项目建设，2005 年实现量产，2006 年 4 月取得北京经济技术开发区环境保护局对该项目的竣工环境保护验收申请的批复（字环验（2006）108 号） 。（2）第 5 代薄膜晶体管液晶显示器件（TFT-LCD）增资扩产项目第 5 代薄膜晶体管液晶显示器件（TFT-LCD）增资扩产项目在京东方光电现有生产线及公辅设施的基础上，改进工艺流程、添置部分工艺设备，使加工玻璃基板能力由 6万张/月（基板尺寸 1100×1300mm）增加至 8.5 万张/月，产品 TFT-LCD 液晶模块能力由扩产前的 669 万块/年增加到 943 万块/年。该项目环评报告书于 2005 年获得原国家环保总局环评批复（批复文号：京技环字2005第 150 号） ，2007 年取得北京经济技术开发区环境保护局的竣工环境保护验收批复（京技环验字2007147 号） 。（3）第 5 代薄膜晶体管液晶显示器件（TFT-LCD）扩产项目京东方光电建设第 5 代薄膜晶体管液晶显示器件（TFT-LCD）扩产项目，加工玻璃基板能力增加至 10 万张/月。该项目于 2007 年 9 月 29 日取得北京经济技术开发区环境保护局环评批复,批复文号为京技环字2007第 169 号，于 2010 年 1 月 22 日取得北京北京京东方光电科技有限公司半透半反液晶显示屏研发生产项目4经济技术开发区环境保护局对该项目的竣工环境保护验收申请的批复（京技环验字2010019 号） 。（4）液晶天线产品研发及生产项目液晶天线产品研发及生产项目（以下简称液晶天线项目）位于京东方光电现有第 5代薄膜晶体管液晶显示器件（TFT-LCD）生产厂房内，依托原有液晶显示器件生产线研发液晶天线的生产技术，研发能力 1040 片/年。该项目于 2018 年 4 月 20 日取得北京经济技术开发区环境保护局环评批复（京技环字2018第 039 号） ，目前该项目已完成环保自主验收并开展完试验。京东方光电历次项目环保手续执行情况见表 1.1-1、表 1.1-2，故京东方光电现有项目环保手续完备。表表 1.1-11.1-1 京东方光电历次环保手续执行情况一览表京东方光电历次环保手续执行情况一览表序号项目名称审批机关批复文号原国家环保总局环审（2004）93 号1北京京东方光电科技有限公司第 5 代薄膜晶体管液晶显示器件项目（报告书）北京经济技术开发区环境保护局环验（2006）108 号原国家环保总局京技环字（2005）150 号2北京京东方光电科技有限公司第 5 代薄膜晶体管液晶显示器件（TFT-LCD）增资扩产项目（报告书）北京经济技术开发区环境保护局京技环字（2007）147 号原国家环保总局京技环字（2007）169 号3关于北京京东方光电科技有限公司第 5代薄膜晶体管液晶显示器件（TFT-LCD）扩产项目（报告书）北京经济技术开发区环境保护局京技环字（2010）019 号北京经济技术开发区环境保护局京技环字2018第 039 号 4北京京东方光电科技有限公司液晶天线产品研发及生产项目环境影响（报告书）企业自主验收已完成表表 1.1-21.1-2 北京京东方光电科技有限公司历史项目情况一览表北京京东方光电科技有限公司历史项目情况一览表序序号号项目名称项目名称建成投建成投产时间产时间产能产能环评批复及时间环评批复及时间验收批复及时间验收批复及时间当前现状当前现状1第 5 代薄膜晶体管液晶显示器件(TFT-LCD)生产线”2005.1060k 片/月（玻璃基板，规格1100×1300mm）环评批复（环审200493 号） ，2004 年 3 月 16 日竣工环境保护验收批复（环验2006108 号） ，2006 年 9月 11 日已建成投产2京东方第 5 代薄膜晶体管液晶显示器件(TFT-LCD)增资2007.585k 片/月（玻璃基板，规格1100×1300mm）环评批复（京技环字2005第 150号） ，2005 年 7月 20 日竣工环境保护验收批复（京技环字2007146 号） ，2007 年 8 月 23 日已建成投产北京京东方光电科技有限公司半透半反液晶显示屏研发生产项目5扩产项目3京东方第 5 代薄膜晶体管液晶显示器件(TFT-LCD) 扩产项目2008.8100k 片/月（玻璃基板，规格1100×1300mm）环评批复（京技环字2007169 号），2007 年 9 月 29日竣工环境保护验收批复（京技环验字2010019 号） ，2010 年 1 月 22 日已建成投产4液晶天线产品研发及生产项目2018.101040 片/年（玻璃基板，规格1100×1300mm）环评批复（京技环审字2018第039 号） ，2018 年4 月 20 日取得竣工环保验收意见，2019 年 1 月21 日已试验结束北京京东方光电科技有限公司半透半反液晶显示屏研发生产项目61.21.2 现有工程建设规模及内容现有工程建设规模及内容（1 1）现有工程建设规模）现有工程建设规模现有工程主要经济技术指标见表 1.2-1；表表1.2-11.2-1 现有工程主要经济技术指标一览表现有工程主要经济技术指标一览表序号序号名名 称称单位单位数量数量备注备注1最大玻璃基板加工能力k 片/月100基板尺寸 1100×1300mm2年产液晶显示屏和模块万块/年1070以 17 英寸计3职工总数人35354工艺设备总数台（套）48785厂区占地面积万 m219.126建筑占地面积m265577.637总建筑面积m2146490.748道路及广场面积m237382.109建筑密度%41.3510容积率0.9111绿化面积m263953.9812绿化系数%33.4413建设项目总投资亿美元13.7（2 2）现有工程建设内容）现有工程建设内容本项目现有厂区工程组成见表 1.2-2。表表1.2-21.2-2 现有工程组成一览表现有工程组成一览表 类类 别别序号序号工程项目工程项目建设内容指标建设内容指标(一)生产厂房1.1主厂房占地面积 54823.56m2，建筑面积 129668.1m2。 由阵列生产、制屏（成盒）生产、模块生产、办公以 及支持部分等组成。(二)生产设施1.2阵列工程生产线阵列玻璃 100k 片/月（规格 1100×1300mm）1.3成盒工程生产线液晶面板屏 1070 万块/年（以 17显示面板为例）主 体 工 程1.4模块工程生产线液晶面板屏 1070 万块/年（以 17显示面板为例）2.1库房占地面积 1225.84m2，建筑面积 3524.62m2。2.2库房占地面积 1225.84m2，建筑面积 3524.62m2。2.3化学品库占地面积 793.09m2，建筑面积 793.09m2。辅 助 工 程2.4化学品库占地面积 747m2，建筑面积 747m2。北京京东方光电科技有限公司半透半反液晶显示屏研发生产项目7类别类别序号序号工程项目工程项目建设内容指标建设内容指标(一)公用厂房3.1动力配套厂房 CUB占地面积：6546.92m2，建筑面积 15182.28m2。 地上设置有纯水站、热交换站、冷冻站、应急 发电机房、配电室、压缩空气站及水泵房，地 下设置有水泵房及蓄水池、过滤池。3.2大宗气体站房存放高纯氮气、高纯氧气、高纯氢气、高纯氩 气3.3废水处理站单层构筑物，主要是由钢筋混凝土池构成。(二)动力设施包括给水排水、采暖通风空调净化、气体动力、 电气工程设施3.5给水系统9400m3/d（包括生产、生活、消防、中水、纯 水系统）3.6纯水系统系统能力 700m3/h。3.7循环冷却水系统系统能力 10800m3/h（8 组组合式冷却塔 1350m3/h，7 用 1 备）3.8化学药品输送系统剥离液、显影液、光刻胶、稀释液、Al 刻蚀液、 ITO 刻蚀液、LH-300、清洗液等共计 8 种3.9空气处理系统空调、净化3.10冷冻水系统用量 11843 USRT（1700 USRT 制冷机组 8 台，7 用 1 备）3.11蒸气系统用量 40 t/h，取自北京经济技术开发区热力管 网3.12大宗气体系统高纯氮气、高纯氧气、高纯氢气、高纯氩气3.13特气系统SiH4、NH3、PH3H2、NF3、SF6、Cl2、He、N2O 等共计 8 种3.14工艺压缩空气系统用量 305761Nm3/h3.15工艺真空系统用量 15669Nm3/h3.16清扫真空系统系统能力 45Nm3/min（1 套）3.17天然气系统用量为 413Nm3/h，取自开发区天然气管网3.18供电系统全厂用电总装设容量 101727kVA3.19应急供电系统400kVA UPS 不间断电源系统 6 台，6KV、2000 kw 应急柴油发电机 4 台(三)职业安全卫生和劳动保护设 施有害气体和废热排除系统、新风补给系统、防 静电设施、安全接地系统、防噪声设施、化学 品防护措施（紧急喷淋及冲眼器） 、氢气管道泄 露探测和报警、有毒（害）气体泄露探测和报 警、防雷接地系统、应急照明和疏散指示、事 故排风、盥洗和饮水、妇女卫生和职工医疗(四)消防设施建筑物防火措施、室内消火栓灭火系统、室内 自动喷水灭火消防系统、室外消火栓灭火系统、 洁净室内防排烟系统、火灾报警系统、声光应 急疏散指示、消防电话系统等。公 用 工 程(五)室外工程厂区道路、照明、围墙大门、室外管线、绿化 等北京京东方光电科技有限公司半透半反液晶显示屏研发生产项目84.1废水处理系统酸碱废水、含氟废水、有机废水、生活污水4.2废气排放系统酸性废气、碱性废气、有机废气、特殊废气环保 工程 4.3废液回收系统废 ITO 蚀刻液、废 Al 蚀刻液、废光刻胶、废剥 离液(一)生产管理设施包括生产管理设施（办公、会议、档案、接待 等） ，服务设施（更衣室、卫生间） 、门卫及保 安等。办公 及 生活 设施(二)生活设施备餐室及员工就餐厅。（3 3）现有工程生产规模及产品方案）现有工程生产规模及产品方案表表1.2-31.2-3 现有工程主要生产规模现有工程主要生产规模序号序号工程名称工程名称产品名称及规格产品名称及规格全厂生产能力全厂生产能力1阵列工程阵列玻璃（规格 1100×1300mm）100k 片/月2成盒工程液晶面板屏（以 17显示面板为例）1070 万块/年3模块工程液晶面板屏（以 17显示面板为例）1070 万块/年（4 4）现有工程劳动定员及工作制度）现有工程劳动定员及工作制度表表1.2-41.2-4 劳动定员及工作制度一览表劳动定员及工作制度一览表序号序号项项 目目内内 容容1劳动定员人员总数约为 3535 人，其中阵列车间 330 人。2工作制度人员全年工作天数为 250 天。 生产线工人实行 4 班 3 运转工作制，每周工作 5 天、每班工作 8 小时 管理人员实行 3 班 3 运转工作制，每周工作 5 天、每班工作 8 小时； 设备全年工作天数 360 天 设备运转方式 24 小时连续运行，设备年时基数 8640 小时。（5 5）现有工程原辅材料）现有工程原辅材料表表 1.2-51.2-5 现有工程现有工程主要原辅材料种类及消耗量主要原辅材料种类及消耗量序号序号材料名称材料名称主要规格和成份主要规格和成份单位单位使用量使用量/ /月月阵列工程阵列工程1玻璃基板2剥离液3显影液4光刻胶 PR5稀释剂6Al 刻蚀液7ITO 刻蚀液8三氟化氮 NF39六氟化硫 SF610硅烷 SiH411乙硼烷 B2H612氨 NH3涉及企业商业秘密，不予公开。北京京东方光电科技有限公司半透半反液晶显示屏研发生产项目913磷烷 PH3/氢气 H214氯 C1215氦 He16靶材成盒成盒 CellCell 工程和模块工程和模块 ModuleModule 工程工程1C/F2偏振片 C/F3偏振片 TFT4液晶材料5玻璃纤维6Tr7配向材料8隔垫物9LH-30010密封胶11清洗剂12掩模版13磨擦布14磨擦带15驱动 IC（X TCP）16驱动 IC（Y TCP）17背光源18印刷线路板 PCB 19各向异性导电胶 ACF20屏蔽罩21硅胶22外框23螺钉涉及企业商业秘密，不予公开。（6 6）现有工程生产设备）现有工程生产设备表表1.2-61.2-6 现有工程主要生产设备一览表现有工程主要生产设备一览表工序设备类型设备类型数量（台数量（台/ /套）套）北京京东方光电科技有限公司半透半反液晶显示屏研发生产项目10涉及企业商业秘密，不予公开。阵列工程成盒工程模块工程其它设备涉及企业商业秘密，不予公开。（7 7）现有工程能源动力消耗）现有工程能源动力消耗本项目主要能源动力消耗情况见表 1.2-7。表表 1.2-71.2-7 现有工程主要能源动力消耗现有工程主要能源动力消耗编号编号名称名称单位单位用量用量供给供给北京京东方光电科技有限公司半透半反液晶显示屏研发生产项目11编号编号名称名称单位单位用量用量供给供给1总用电负荷万 kWh2自来水m3/d3再生水m3/d4工艺真空Nm3/h5工艺压缩空气Nm3/h6总制冷量USRT7氮气Nm3/h8纯氧气Nm3/h涉及企业商业秘密，不予公开。9纯氢气Nm3/h10纯氩气Nm3/h11纯氦气Nm3/h12天然气Nm3/h （8 8）公用工程）公用工程给水开发区现有经开再生水厂和路东再生水厂，规模分别为 2.0 万 m3/d 和 4.0 万m3/d。京东方使用的再生水主要由经开再生水厂供给。排水开发区规划范围内已建有集中污水处理厂 3 个，即北京金源经开污水处理厂、开发区东区污水处理厂、开发区南区污水处理厂。北京金源经开污水处理厂坐落在北京经济技术开发区核心区西南部，与凉水河毗邻，两期日处理能力共 5 万 m3，由博大水务公司参股的北京金源经开污水处理有限责任公司负责运行管理。开发区东区污水处理厂坐落在北京经济技术开发区东区 G8U1 地块，总占地面积为8.4 公顷，最大日处理能力 10 万 m3，承接处理开发区东区、河西区的工业和生活废水及核心区 5 万 m3/d 处理能力的过盈污水。南区污水厂位于北京经济技术开发区路南区于 VII-1 街区 N41U1 地块，2016 年12 月正式运行。最大日处理能力 5 万 m3，将分期分组建设。一期污水处理 2 万 m3/d，已投入使用。处理工艺选用 MBR+臭氧消毒工艺。本工程位于北京经济技术开发区污水管网纳水范围。目前北京经济技术开发区污水管网由北京亦庄水务有限公司根据现有污水处理厂负荷情况统一调配废水去向，由开发区内污水处理厂处理。供电北京京东方光电科技有限公司半透半反液晶显示屏研发生产项目12开发区供电局在厂区附近建设有 110kV 高压变电站专供京东方公司使用。供气、供热开发区的集中供热由北京博大开拓热力有限公司承担，位于北京经济技术开发区宏达北路 6 号，前身为北京开拓热力中心。北京博大开拓热力有限公司服务于区内企业、商住、公建、居民等生产、生活用热的需求，直接管理着 5 个热源厂、3 个专业分公司、1 个子公司、2 个热网：一个蒸汽网，一个高温热水网，自有蒸汽供应能力970 吨/小时，高温热水供应能力 374 兆瓦。天然气：开发区内有三家燃气供应商，可为用户提供优质天然气，路东区由港华燃气供应，核心区由市燃气总公司供应，河西区由华油供应。压力 0.8kg/cm2，热值850010000 千卡/m3。工艺气体供应大宗气体（氮气、氧气、氢气、氩气、氦气）全部由专业气体公司供应。1.31.3 现有工程分析现有工程分析1.3.11.3.1 现有工程工艺流程简述现有工程工艺流程简述现有工程主要包括阵列工程、成盒工程、模块工程三大部分，现有工程项目简化后的生产工艺流程见图 1.3.1-1。图图 1.3.1-11.3.1-1 半导体显示器件总体工艺流程简图半导体显示器件总体工艺流程简图（一）（一） 阵列工程（阵列工程（ArrayArray）阵列工程是在玻璃基板上制造出数万个薄膜晶体管，这些晶体管在 TFT-LCD 工作时起电路开关作用，它们按顺序把图像信号传输至像素，薄膜晶体管阵列由不同材料和形状的薄膜层叠构成，包括 5 次薄膜沉积和光刻过程。阵列工程 Array （阵列基板制备）成盒工程 Cell （液晶盒制备）模块工程 Module （液晶模块制备）玻璃基板 （阵列基板制备）产品 （阵列基板制备）C/F 玻璃 （外购）北京京东方光电科技有限公司半透半反液晶显示屏研发生产项目13阵列生产车间负责阵列基板的生产，工序包括玻璃基板清洗、靶材溅射沉积、等离子体化学气相沉积、掩膜光刻、湿法/干法刻蚀、光刻胶剥离等。阵列工程使用外购的专用玻璃基板，充分清洗后在其清洁干净的表面上通过化学气相沉积的方法形成半导体膜或绝缘膜，通过溅射镀膜的方法形成金属膜。然后对删电极及引线、有源层孤岛、漏源电极及引线、接触过孔、像素电极、经光刻胶涂敷、光刻胶曝光、显影等光刻工艺并经湿法刻蚀、干法刻蚀后，剥离掉多余的光刻胶，经热处理把半导体特性作均一化处理后即做成阵列玻璃基板。在阵列过程中需要多次进行基板清洗、溅射沉积、气相沉积、掩膜光刻、湿法/干法刻蚀、光刻胶剥离，使用的化学品和特殊气体种类较多，现有工程的主要污染源也来自于此。阵列工艺流程及产污节点示意图 1.3.1-2。玻璃基板清洗ITO刻蚀液、纯水清洗废水成膜工序 靶材溅射沉积 或 化学气相沉积金属靶材/氧化物靶材 或 特殊气体掩膜光刻S1废靶材 或 G3特殊废气G2碱性废气、G4有机废气 W1酸碱废水 S2有机废液光刻胶、稀释剂 显影液、纯水刻蚀工序 湿法刻蚀 或 干法刻蚀G1酸性废气（挥发酸刻蚀液） W1酸碱废水 S2废刻蚀液 或 G3特殊废气刻蚀液 或 特殊气体光刻胶剥离G4有机废气 W3有机废水 S2有机废液剥离液、纯水图图1.3.1-21.3.1-2 阵列工艺流程及产污节点示意图阵列工艺流程及产污节点示意图（二）成盒工程（制屏工程，（二）成盒工程（制屏工程，CellCell）成盒工艺就是将阵列基板和彩膜基板精确对盒，形成液晶盒的过程。成盒工艺即涉及企业商业秘密，不予公开。北京京东方光电科技有限公司半透半反液晶显示屏研发生产项目14负责从 PI 涂敷、固化、摩擦、液晶滴下、涂封框胶、紫外及热固化、切割、磨边、测试等各工序的生产。首先对加工完成的 TFT 及采购的 CF 面板进行清洗，清洗工序使用超纯水和清洗剂清洗阵列基板及彩膜基板以去除表面污染物，再分别在两块基板上涂覆取向膜层（PI）形成取向层，用包裹了化纤或纯棉绒布的滚轮高速转动沿特定方向分别摩擦阵列基板和彩膜基板，这一过程称为取向层涂覆和摩擦取向处理，取向处理后在阵列基板或彩膜基板的显示屏上的显示区内滴入适量的液晶，在另一块基板上对应显示边界区域涂封边框胶，然后在真空环境下，将阵列基板和彩膜基板精确压合在一起，在封框胶封闭的显示区域内，液晶均匀扩散，充满显示区域，同时在紫外光照射和加热条件下，封框胶固化，形成液晶盒。在一定条件下，液晶盒内的液晶层与取向层界面的液晶棒状分子会沿着摩擦方向排列，之后在分子间作用力影响下液晶层内分子也会趋向规则排列。为提高生产效率，采用大尺寸剥离基板，可一次形成多种尺寸显示屏的阵列和彩膜。切割工序就是使各显示屏液晶盒相互分离，打磨玻璃边缘以消除玻璃面板的裂痕以及使得边缘光滑。为保证显示屏的相关特性，加入电学信号对成盒后的面板进行检测，检测合格，成盒工艺完成。即成盒过程是将阵列基板和彩色滤光片经清洗，表面涂敷取向膜、经固化、摩擦配向处理，在阵列基板进行液晶滴下，在彩膜基板涂布封筐胶及导通材料，两基板在真空中粘合、固化，即成盒。再根据下游厂家的需求进行盒分割，加入电信号作图像检查后即成为 LCD 面板（Panel）。成盒工艺流程及产污节点示意图见图 1.3.1-3 和表 1.3.1-1。北京京东方光电科技有限公司半透半反液晶显示屏研发生产项目15图图 1.3.1-31.3.1-3 成盒工艺流程及产污节点示意图成盒工艺流程及产污节点示意图G4 有机废气S2 有机废液涉及企业商业秘密，不予公开。北京京东方光电科技有限公司半透半反液晶显示屏研发生产项目16表表1 1.3.3.1.1-1-1 现有工程主要产污环节及污染物汇总表现有工程主要产污环节及污染物汇总表涉及企业商业秘密，不予公开。北京京东方光电科技有限公司半透半反液晶显示屏研发生产项目17涉及企业商业秘密，不予公开。北京京东方光电科技有限公司半透半反液晶显示屏研发生产项目18涉及企业商业秘密，不予公开。北京京东方光电科技有限公司半透半反液晶显示屏研发生产项目191.3.21.3.2 平衡分析平衡分析现有工程用水、排水量见表 1.3.2-1。表表 1.3.2-11.3.2-1 现有工程用水量表现有工程用水量表重复用水量重复用水量 类别类别自来水自来水再生水再生水纯水纯水中水（回中水（回 收清洁工收清洁工 艺用水）艺用水）重复利用重复利用循环利用循环利用废水排放废水排放纯水制备108876500000209脱水机000490049工艺用水00125920584606755 中水调节 池115000000冷却塔000640010500010 废气处理 装置000245024000245POU 洗气 塔000656015000556生产用水小计1203765012592159058461440007824绿化用水000144000冲厕00015500155生活用水1000000080生活用水小计1000029900235总计1303765012592188958461440008059回用水使用率5846 ÷ （7650+1203）×100% =66.0%工业重复用水利用率（5846+144000）÷（5846+144000+1203+7650）×100% =94.4%北京京东方光电科技有限公司半透半反液晶显示屏研发生产项目20图图 1.3.2-11.3.2-1 现有水平衡图现有水平衡图涉及企业商业秘密，不予公开。北京京东方光电科技有限公司半透半反液晶显示屏研发生产项目211.3.31.3.3 现有工程主要污染物排放情况现有工程主要污染物排放情况（一）现有工程大气污染物排放情况（一）现有工程大气污染物排放情况现有工程主要排放大气污染物的污染源为生产废气，废气产生情况见表1.2.3-1，各排气筒手动检测及酸性排气筒在线检测数据见表 1.3.3-1。表表 1 1.3.3.3.3- -1 1 现有工程废气产生情况一览表现有工程废气产生情况一览表建建 筑筑 物物废气废气 种类种类产污工序产污工序使用主要化学品使用主要化学品主要污染物主要污染物处理系统处理系统酸性 废气湿法刻蚀ITO 刻蚀液（H2SO4+CH3COOH） 、Al 刻蚀液（H3PO4+HNO3+CH3COOH）氮氧化物酸性废气处理 系统 碱性 废气显影四甲基氢氧化铵（TMAH）氨碱性废气处理 系统特殊 废气干法刻 蚀 化学气 相沉积SF6、Cl2 SiH4、NH3、NF3氟化物、氨、 氯化氢、氯、 氮氧化物POU+特殊废气 处理系统主 厂 房有机 废气光刻涂 胶 光刻胶 剥离光刻胶、稀释剂、剥离液非甲烷总烃、 氮氧化物有机废气处理 系统（1 1）生产废气排放情况）生产废气排放情况根据现有工程产污环节分析，北京京东方光电科技有限公司现有工程产生的生产废气分为酸性废气、碱性废气、特殊废气、有机废气。全厂共设有 7 根排气筒，其中酸性废气处理系统及排气筒 1 套；碱性废气处理系统及排气筒 1套；酸/碱性废气处理系统共用备用系统及排气筒 1 套；有机废气处理系统及排气筒 2 套，1 用 1 备；特殊废气处理系统及排气筒 2 套，1 用 1 备。京东方光电委托第三方监测机构对生产废气进行了监测，本报告收集了2019 年 1 月至 4 月度检测报告,各个排气筒污染物排放情况见表 3.2-5。根据下表所列监测数据，本项目生产废气各个排气筒排放的污染物均能满足北京市大气污染物综合排放标准 （DB11/501-2017）和和北京市电子工业大气污染物排放标准 （DB11/ 1631-2019）中显示器件行业第 II 时段排放标准限值要求。见表 1.3.3-2 和 1.3.3-3。北京京东方光电科技有限公司半透半反液晶显示屏研发生产项目22表表 1 1.3.3.3-2.3-2 2012019 9 年年 1 1 月月-4-4 月月现有工程生产废气排放情况（现有工程生产废气排放情况（综合排放地标综合排放地标）20192019 年年 1 1 月月-4-4 月最月最 大监测数据大监测数据北京市北京市大气污染物大气污染物 综合排放标准综合排放标准 （DB11/501-2017DB11/501-20