抛光液垫CMP工艺关键耗材.docx
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1、表1 :相关公司盈利预测与估值(更新至2020年4月23日收盘价)资料来源:wind.公司股价(元)市值(亿元)17归母净利润(亿元)21E17净利润增速21E1718PE181920E181920E1920E21E安集科技176.6693.820.400.450.660.800.977%13%46%22%22%187165152125102鼎龙股份11.76115.423.362.930.392.192.7440%-13%-87%467%25%33372865241表2 :重点公司核心逻辑股票代码公司核心逻辑安集科技CMP抛光材料处于国内领先地位,正在积极进行28-14nm产品的 客户推广和
2、10-7nm新技术节点的研发,同时正在加大投入扩建抛光液产能。688019.SH安集科技随着技术的突破和产能的扩张,安集科技将充分受益中国半导体行业红利。预计2020年安集科技抛光液业务营收将到达2.8亿元,同比增长20%,毛利300054.SZ鼎龙股份保持在54%,总体营收将到达3.5亿元,同比增长23%,毛利保持在50%。 得益于在彩色聚合碳粉领域的丰富经验,公司在抛光垫领域有着天然优势, 生产线到达国际先进水平,目前已通过验证并获得8寸、12寸晶圆厂订单。 公司已投入7000万元用于显示基板材料及CMP产业化工程。未来鼎龙股份 抛光垫业务有望在国产替代趋势下快速增长,成为公司新的增长动力
3、。预计 2020年鼎龙股份CMP抛光垫业务营收将到达0.9亿元,毛利保持在17%, 总体业务将到达14.6亿元,毛利将达37%o资料来源:wind,Cabot Microelectronics :全球抛光液龙头Cabot Microelectronics (卡伯特微电子)1999年成立于美国是全球最大的CMP抛光液供应商,市占率 36%,同时是全球第二大的CMP抛光垫供应商,市占率5%。Cabot业务以抛光液为主,2018年全年营收5.9 亿美元,其中CMP抛光液贡献78%,达4.6亿美元。Cabot抛光液产品结构以主要用于存储芯片的鸨抛光液为 主,占比55%;电介质抛光液占比30%,其他金属
4、抛光液占比15%。Cabot作为全球最大的抛光液供应商,客户分布广泛,且分散度高。韩国是Cabot抛光液最大的市场,其 次是中国台湾、中国大陆、美国以及欧洲,占比分别为23%、22%、16%、13%、7%o可以看出,Cabot的市场 收入分布与全球晶圆制造行业分布一致,公司在全球均有极强的竞争力。同时,Cabot前五大客户收入占总营收 比重为57%,客户分散度较高。2018年,Cabot在中国大陆营收为0.97亿美元,约为安集科技的三倍。图20 : Cabot抛光液产品的收入结构图21 : 2018年Cabot营收地区结构Cabot产品线丰富,专用化程度高。公司抛光液产品针对鸨、电介质(硅、氧
5、化物等)、金属(铜、铜阻 层、铝等)等应用对象均有明确的定位,且推出多款针对不同制程的产品,涵盖10nm-130nm制程,以满足客 户多层次的需求。知识产权是Cabot重要的护城河。Cabot微电子致力于基础CMP技术、CMP消耗品等领域的研发,2019 财年中研发投入共计达5170万美元。Cabot微电子拥有强大且完备的知识产权体系,截至2019年10月31日, Cabot微电子在全球拥有1317项有效专利,其中284项为美国专利。并且Cabot微电子有357项正在申请的全球 专利,以不断更新公司的知识产权体系,维护公司的持续竞争力。Cabot微电子注重尖端CMP抛光材料的研发,在全球各个主
6、要的半导体市场均设有研发中心,助力企业 更好地服务客户。公司在美国伊利诺伊州奥罗拉市的研发中心设有1级无尘室,以及用于开发300mm抛光材料的 先进设备;在台湾设有具有200mm抛光能力的无尘室;在韩国的研发中心具有抛光液配制能力和300mm抛光能 力;在新加坡设有研发实验室,为数据存储芯片提供抛光、计量以及抛光液开发功能。遍布全球的研发中心让 Cabot微电子能够与客户形成紧密联系,及时获取客户需求,并提供性能优异的CMP抛光材料解决方案。Dow :全球抛光垫绝对领导者陶氏化学成立于1897年,经过一百多年的开展,目前已经成为了美国第一大、全球第二大化工企业。公司 产品丰富、业务广泛,产品主
7、要涵盖电子及特殊材料、涂料和基础设施、健康农业科学、特种系统、特种化学 品、基础塑料、基础化学品、煌及能源八大领域,有5000多种产品,客户普及全球170多个国家。陶氏在半导 体材料领域主要经营CMP抛光垫、抛光液、光刻材料等,尤其在CMP抛光垫市场有着绝对的统治地位,全球 市占率高达79%。陶氏抛光垫产品技术先进,始终引领着市场开展。陶氏最早推出的型号为IC1000的抛光垫产品,现在已经 成为了抛光垫行业标准,其他厂商的抛光垫产品测试均以IC1000对标标准。陶氏的抛光垫产品正在朝着缺陷率 更低、平坦度更高、使用寿命更长的方向开展,历代产品在缺陷率、使用寿命上均有大幅的提升,如2014年推
8、出的IKONIC4000的缺陷率在2010年的VISIONPAD6000的基础上降低了 70%。在未来这一开展方向仍将引领 整个抛光垫行业的开展。图22 :陶氏抛光垫产品平坦度越来越高图23 :陶氏抛光垫缺陷率越来越低6421s 6420111 o o o OS lpos po)z=BluON6421s 6420111 o o o OS lpos po)z=BluONIC1000 VISIONPAD6000 IKONIC3040M表4:陶氏历代抛光垫产品介绍品牌推出时间一主要优势IC1000AT低缺陷2007在200及300mm平台作业时最高可降低50%的缺陷率IC1000AT长寿命2007使
9、用寿命延长30%VISIONPAD52002010移除率铜提高10%30%,缺陷率降低10%-20%VISIONPAD60002010刮痕缺陷降低50%60%,蝶形缺陷降低35%IKONIC40002014面向锦基应用,缺陷率降低70%资料来源:。17,资料来源:DOW,资料来源:。此安集微电子:步步为营,逐步成长为国内抛光液龙头安集微电子步步为营、稳扎稳打,实现技术与市场双重突破。安集微电子成立于2006年,注册资本4000 万元,主营化学机械抛光液和光刻胶去除剂。2008年切入中芯国际供应体系,逐步翻开国内市场。2009-2010 年,先后开拓华虹宏力、武汉新芯、华润微三家客户。2014年
10、安集微电子成功切入国际晶圆制造巨头台积电供 应链,并于同年开始负责“高密度封装TSV抛光液和清洗液研发与产业化”国家“02专项”。2015年“02专项”成 功验收,并实现130-28nm技术节点规模销售。2016年,安集微电子获得国家集成电路产业基金入股,并承接“CMP 抛光液及配套材料技术平台和产品系列”国家“02专项”,企业开展进入新阶段。2017年后,公司推出鸨系列抛 光液,产品体系进一步丰富,并拓展了长江存储、土兰微等新客户。目前公司CMP抛光材料处于国内领先地位, 全球抛光液市场份额为2.4%,正在积极进行28-14nm产品的客户推广和10-7nm新技术节点的研发。图24 :安集微电
11、子开展历史安集有限成立产品切入华虹宏力安集有限成立产品切入华虹宏力(1)国家集成电路产业基 金入股(2)负责“CMP抛光液 及百己套材料技术平台和产 品系列”国家“02专项”(1)向台积电实现销售 (2)负责“高密度封装TSV抛光液和清洗液研发 与产业化”圉家“02专项”与中芯国际达成合作,成 为其核心供应商之一,并 借此开发下游客户,逐渐 翻开国内外市场向武汉新芯和华港 微开始销售(1) “9065nm” 和 “45-28nm”两项集成 电路关键抛光材料研发 与产业化的“02专项” 成功验收(2)实现13028nm技 术节点规模化销售(1)推出鸡系列 抛光液(2)新增客户长 江存储、土兰微等
12、(1) CMP抛光材 料处于国内领先地 位(2) 28-14nm产 品客户推广中, 107nm技术节点 研发中资料来源:安集微电子招股书,安集微电子营收状况良好,毛利高于行业水平。安集微电子营收稳定增长,铜及铜阻挡层抛光液占比最高。16-18年,公司铜及铜阻挡层抛光液营收占比分别为76.42%、74.99%, 66.32%。铝抛光液等其他抛光液增长较 快,16-18年营收分别为2620万元、3403万元、4079万元,复合增长率达24.8%。此外,16-18年公司毛利在 50%以上,显著高于国内可比公司,与国际龙头Cabot Microelectronics处于同一水平,足以表达公司产品实力。
13、图25 :安集微电子2016-2018年营收情况图26 :安集微电子毛利率与同业公司比照 VArsnm Enteqris Fujimi资料来源:娶果微电子招股书,2,安集微电子正在积极扩建生产线,不断巩固市场地位,满足市场需求。公司“CMP抛光液生产线扩建工程” 募投L2亿元,将用于扩建CMP抛光液生产系统和相应的厂务系统。工程将具体落实到铜及铜阻挡层抛光液 28nm以下技术节点产能,3D NAND、DRAM的金属铝抛光液产能,以及其他化学机械抛光液的产能,预计新 增产能分别为6100吨、9000吨、1000吨。表5 :化学机械抛光液募投工程情况产品类型 技术节点性能指标与现有产品差异预计新增
14、产能铜及铜阻挡层化 逻辑28nm以下 满足逻辑28nm以下技 现有量产产品为28nm及以上技 +6100 吨学机械抛光液技术节点术节点要求术节点用金属鸨化学机械 3D NAND抛光液DRAM满足3D NAND和DRAM的要求目前产能较低,为多个新客户、新应用开发的新产品正在认证 9000吨 中,需建设专用生产线其他化学机械抛 光液其他化学机械抛 光液满足客户技术节 点要求满足客户性能指标要求新产品,无专用生产线1000 吨资料来源:安集微电子招股书,2019财年,安集微电子营收2.85亿元,同比增长15.15%;净利7290万元,同比增长51.54%。我们预测安 集微电子20/21年营收将到达
15、3.51/4.48亿元,其中CMP抛光液营收2.83/3.54亿元,光刻胶营收0.67/0.93亿元。 公司将保持54%左右的毛利和23%左右的增长率高速增长。表6 :安集微电子收入拆分与预测(百万元)收入拆分与预测20162017201820192020E2021ECMP抛光液176.48208.35205.16235.70282.84353.55YOY18%-2%15%20%25%毛利98.07116.03110.91127.66153.19191.48毛利率56%56%54%54%54%54%光刻胶去除剂19.4223.0142.0549.3068.7795.93YOY18%83%17%
16、39%39%毛利10.9112.3815.3515.7121.9230.57毛利率56%54%37%32%32%32%其他业务0.741.070.630.410.360.32YOY45%-41%-35%-11%-11%毛利0.06320.02840.14040.060.060.05毛利率9%3%22%15%15%15%合计196.64232.43247.84285.41351.97449.80YOY18%7%15%23%23%毛利109.04128.44126.40143.43175.16222.10毛利率55%55%51%50%50%49%资料来源:安集微电子招股书,wind,表7 :安集微
17、电子盈利预测(股价取2020年4月23日收盘价)资料来源:安集微电子招股书,wind,基本指标20162017201820192020E2021E营业收入(百万元)196.64232.43247.84285.41351.97449.80YOY18%7%15%23%23%归母净利润(百万元)37.0939.7344.9665.5079.9097.47YOY7%13%46%22%22%毛利率55%55%51%50%50%49%净利率19%17%18%23%23%22%EPS11.131.231.501.84PE187165152125102图27 :安集微电子主营业务收入图28 :安集微电子主营业
18、务收入占比 CMP抛光液光刻胶去除剂其他业务宙力升1 nn -1 CMP抛光液 光,刻胶去除剂 其他业务口 ZZ1 UU /CQQO/ -_ U /o80% - rrrnlzu io 1 zu / 1 2uio zuihE 1 zuzuE 1 2bz b u fr2u o 1 2u 7 1 2U o 1 2U 9E 1 zuzuE 1 2uz 1 CMP抛光液光刻胶去除剂其他业务宙力升1 nn -1 CMP抛光液 光,刻胶去除剂 其他业务口 ZZ1 UU /CQQO/ -_ U /o80% - rrrnlzu io 1 zu / 1 2uio zuihE 1 zuzuE 1 2bz b u f
19、r2u o 1 2u 7 1 2U o 1 2U 9E 1 zuzuE 1 2uz 1资料来源:安集微电子招股书,资料来源:安集微电子招股书,资料来源:安集微电子招股书,鼎龙股份:技术实力扎实,打造国内抛光垫第一厂商鼎龙股份技术实力扎实实现国产抛光垫突破。鼎龙股份在彩色聚合碳粉领域有扎实技术积累和生产经验,由 于该领域与抛光垫均用到分子聚合工艺,因而公司在开展抛光垫材料上有天然优势。2013年,公司正式立项 CMP抛光垫材料研发。2016年公司抛光垫产业化建设完工,投入试生产。2017年公司抛光垫产品成功通过客户 验证,并获得首张订单。2018年,公司收购成都时代立夫科技,进一步拓展抛光垫产品
20、及服务能力。同年,公 司产品通过8寸晶圆厂验证并取得订单。2019年,国内各大12寸晶圆厂开始对公司产品测试,并取得订单。鼎龙股份不断投入CMP抛光垫,成为公司新增长点。2018年公司抛光垫实现314.89万元营收,2019年随 着12寸订单的增加,公司有望迎来新突破。目前公司CMP抛光垫业务尚处在产能建设期,公司7000万规模的 在建工程便是包括了显示基板材料及CMP产业化工程,投入增加34.02%。2019年6月,公司以增资扩股方式 引入湖北省高新产业投资集团3000万元的战略投资,以进一步推动CMP抛光垫的市场拓展和业务开展。表8 :鼎龙股份抛光垫业务开展节点时间点工程情况尸公司在化学品
21、新材料横向产业领域进行了大量市场调研,公司正在研发用于集成电路芯片和蓝 2013年年报宝石化学机械抛光的抛光垫(简称CMP抛光垫),并完成蓝宝石抛光用抛光液工程前期工作 即将全面启动抛光材料的产业化工作,公司计划用五年左右的时间,充分利用化学制备领域上2014年年报的技术优势以及上市公司资本运作手段,力求能在打印复印耗材、半导体新材料、生活健康类新材料等几大领域上拓展现有产业链,深耕打造“全球卓越化学品新材料供应商”公司在CMP工程的研发和建设上配置了高端资源,按照工程实施计划,已组建由海外背景专家2015年半年报带队的研发和市场团队,工艺路线得到确认并完善,核心设备采购已基本结束,规模化厂房
22、建设已经于近期全面铺开,该工程计划将于明年年中建成并释放产能斤仔集成电路及制程工艺材料产业:以化学机械抛光垫产品为切入口,力图形成新的产业布局,投资1亿元成立的公司CMP抛光垫工程一期产业化建设顺利,预计于2016年中建成开始试生产 公司CMP抛光垫产业化工程于近日完工,进入试生产阶段,该工程的国际化团队已组建完毕, 2016年半年报团队具备后期产品验证应用测试的专业能力,下半年公司主要工作将以产品的客户验证为重点,会与下游重点芯片厂商及行业协会展开应用测试的技术对接及合作洽谈,以加快应用测试速度2016年7月9日 公司顺利获批加入中国集成电路材料和零部件产业技术创新战略联盟2016年年报CM
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