表面工程课程重点.doc
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1、【精品文档】如有侵权,请联系网站删除,仅供学习与交流表面工程课程重点.精品文档.刷镀的特点1)镀层结合强度高,在钛、铝、铜、铬、高合金钢和石墨上也具有很好的结合强度。(2)设备简单、工艺灵活、操作方便,可以在现场作业。(3)可以进行槽镀困难或实现不了的局部电镀。例如对某些重量重、体积大的零件实行局部电镀。(4)生产效率高。刷镀的速度是一般槽镀的1015倍;辅助时间少;且可节约能源,是槽镀耗电量的几十分之一。5)操作安全,对环境污染小。刷镀的溶液不含氰化物和剧毒药品,可循环使用,耗量小,不会因大量废液排放而造成污染。化学镀有如下的特点:镀覆过程不需外电源驱动;均镀能力好孔隙率低;镀液通过维护、调
2、整可反复使用,但使用周期是有限的;可在金属、非金属以及有机物上沉积镀层。热喷涂技术按照加热喷涂材料的热源种类分为:火焰喷涂,电弧喷涂,高频喷涂,等离子弧喷,涂超音速喷涂,爆炸喷涂2) 热喷涂特点 :(1)适用范围广(2)工艺灵活(3)喷涂层的厚度可调范围大(4)工件受热程度可以控制(5)生产率高TD法的优点设备简单,价格便宜;操作简便;工件冷却方法任意选择;镀层成分、性能不受处理温度的影响;易于作局部镀覆;可作重复处理,便于返修。磁控溅射特点1)在阴极靶面上建立一个环状磁靶,以控制二次电子的运动,离子轰击靶面所产生的二次电子在阴极暗区被电场加速之后飞向阳极。 2)能量较低的二次电子在靠近靶的封
3、闭等离子体中作循环运动,路程足够长,每个电子使原子电离的机会增加,而且只有在电子的能量耗尽以后才能脱离靶表面落在阳极(基片)上,这是基片温升低、损伤小的主要原因。3)高密度等离子体被电磁场束缚在靶面附近,不与基片接触。这样电离产生的正离子能十分有效地轰击靶面,基片又免受等离子体的轰击。电子与气体原子的碰撞几率高,因此气体离化率大大增加。CVD的特点(1)在中温或高温下,通过气态的初始化合物之间的气相化学反应而沉积固体。(2)可以在大气压(常压)或者低于大气压下(低压)进行沉积。一般来说低压效果要好些。(3)采用等离子和激光辅助技术可以显著地促进化学反应,使沉积可在较低的温度下进行。(4)镀层的
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