机械设计二试卷B(1).pdf
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1、20102010 年春季学期机电工程专机械设计 II期末试卷(B 卷)卷面总分:100 分答题时间:120 分钟题题号号得得分分一一二二三三四四五五六六七七八八九九十十总分总分一一:填空(本大题共 5 小题,每小题 2 分,共 10 分)1、在平面机构中,具有两个约束的运动副是低副;具有一个约束的运动副是高副.2、机构具有确定运动的条件是:原动件数目等于自由度数目.3、能实现间歇运动的机构有棘轮机构、槽轮机构、不完全齿轮机构及凸轮式间歇运动机构。4、刚性转子的动平衡条件是、。5、齿轮的正确啮合条件是模数相等、压力角相等。二:选择(本大题共 5 小题,每小题 2 分,共 10 分)1、一个平面高
2、副所提供的约束数目为(A)。A。1B.2C。3D。42、在对机构进行动态静力分析时,常常将下列哪种力忽略不计?(C)A.惯性力B.摩擦力C.重力D.运动副反力3、下列基本机构中,能够实现转动与往复移动之间的运动转换的是(D)。A.棘轮机构B。带传动机构C.齿轮齿条机构D.曲柄摇杆机构4、下列齿轮传动中,属于平面齿轮机构的是(D).A.圆锥齿轮机构B.交错轴斜齿圆柱齿轮机构C.蜗杆传动机构D。人字齿轮机构5、下列机构中有自锁性的机构是(B).第1页共4页A.平面连杆机构B.蜗杆蜗轮机构C。链传动机构D。凸轮机构三:判断(本大题共 5 小题,每小题 2 分,共 10 分)1、在运动链中,若选定某个
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